

高分辨率粉末 X 射线衍射仪
High-Resolution Powder X-Ray Diffractometer
- SKU XRD-0002
- X 射线粉末衍射仪
- CE (to be confirmed)
- Radiation safety enclosure (to be confirmed)
- ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 2-theta 范围 | 0–160° |
|---|---|
| 角度分辨率 | < 0.05° FWHM |
| X 射线管功率 | 1–3 kW |
| 单色器 | incident-beam Ge or mirror |
| 测角仪半径 | 240–320 mm |
| 检测器 | solid-state or position-sensitive |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:USP <941> X-Ray Diffraction, ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation, ASTM D934 Identification of crystalline compounds in water-formed deposits
什么是高分辨率粉末 X 射线衍射仪?
高分辨率粉末 X 射线衍射仪使用长臂、精密测角仪和单色光学获取准确数据。它适合晶格参数、Rietveld 精修和高要求的定量物相分析。
什么是高分辨率粉末 X 射线衍射仪?高分辨率粉末 X 射线衍射仪使用长臂、精密测角仪和单色光学获取准确数据。它适合晶格参数、Rietveld 精修和高要求的定量物相分析。## 概述
该研究级系统结合高功率 X 射线管、入射束单色器或反射镜光学、长半径高精度测角仪以及固态或位敏检测器。结果得到窄而分辨良好的峰和低背景,可实现准确晶格参数、微晶尺寸和应变分析,以及复杂多相混合物可靠的 Rietveld 精修。配置包括 theta-theta 或 theta-2theta 几何、用于不规则样品的平行束光学以及用于有机物的毛细管透射。入射束单色器去除 K-beta 和荧光,对含铁和钴样品很重要。用有证标准品验证角度分辨率、零点误差和仪器峰形。系统需要稳固基础、水冷或风冷以及受控环境。## 工作原理是什么?聚焦的 X 射线束(通常为铜 K-alpha 辐射)照射粉末或多晶样品。晶格平面散射该束,在满足布拉格定律(n 乘 lambda 等于两倍 d 乘 sine theta)的角度发生相长干涉。检测器随束与样品之间角度的变化记录峰位和强度,得到衍射图。峰位揭示晶格间距并从参考数据库鉴定物相,峰强度给出相对物相量,峰宽与微晶尺寸和微观应变相关。择优取向、样品位移和荧光会使结果失真,因此样品制备和仪器对位至关重要。现代仪器采用 theta-theta 几何、固态或位敏检测器以及用于检索匹配、Rietveld 精修和峰形分析的软件。## 主要特点有哪些?- 高功率管配入射束单色器 - 长半径高精度测角仪 - 峰窄且背景低 - 准确的晶格参数测定 - 多相样品可靠的 Rietveld 精修 - 平行束和毛细管透射选项
技术参数有哪些?典型的高分辨率粉末 X 射线衍射仪配置:2-theta 范围为 0–160°;角度分辨率为 < 0.05° FWHM;X 射线管功率为 1–3 kW;单色器为 incident-beam Ge or mirror;测角仪半径为 240–320 mm;检测器为 solid-state or position-sensitive。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?高分辨率粉末 X 射线衍射仪主要用于晶格参数和微晶尺寸研究、多相材料的定量物相分析、药物晶型表征、电池、催化剂和合金物相研究。在更广泛的 X 射线粉末衍射仪类别中,实验室还将其用于药物多晶型和结晶度检测、水泥、熟料和矿物物相分析、催化剂、电池和陶瓷材料。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 USP <941> X-Ray Diffraction、ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation、ASTM D934 Identification of crystalline compounds in water-formed deposits、ISO 20203 Carbonaceous materials for aluminium production—XRD of calcined coke、ISO/IEC 17025、IEC 61010-2-091。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。X 射线衍射仪是受监管的辐射装置,需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者。粉末样品必须细磨并重现装填,因为颗粒尺寸、堆密度和择优取向会使峰强度偏差;背装、侧装或旋转样品台可减少取向效应。含铁、钴或锰样品的荧光会提高铜辐射下的背景,可能需要更换波长或使用单色器。用硅或刚玉等标准品验证对位、零点偏移和仪器峰形。检测器和 X 射线管是磨损件,应定期检查测角仪校准。保存样品制备记录以实现方法可追溯性。## 如何选择合适的高分辨率粉末 X 射线衍射仪?当需要准确晶格参数、微晶尺寸和应变或稳健的 Rietveld 定量时,例如制药、电池和先进材料研究,选择高分辨率系统。请说明所需分辨率、2-theta 范围和样品台,并确认对位和性能验证标准品。### 与其他 X 射线粉末衍射仪型号相比如何?应根据分辨率、检测器类型、样品环境和通量选择粉末衍射仪。台式仪器紧凑易用,适合物相鉴定和常规质量控制,但分辨率和附件较少。高分辨率研究系统使用长臂、单色器和高精度测角仪,用于精确晶格参数、定量分析和复杂峰形拟合。原位系统增加加热、冷却、湿度或气体台用于时间分辨研究。微聚焦仪器提供小束斑用于包裹体和小样品。透射几何适合弱吸收有机和制药材料,并可减少择优取向。确认 2-theta 范围、角度分辨率、自动进样器容量以及 Rietveld 和 PDF 数据库访问等软件功能符合应用需求。
完整技术参数
| 2-theta 范围 | 0–160° |
|---|---|
| 角度分辨率 | < 0.05° FWHM |
| X 射线管功率 | 1–3 kW |
| 单色器 | incident-beam Ge or mirror |
| 测角仪半径 | 240–320 mm |
| 检测器 | solid-state or position-sensitive |
| 测量时间 | 10–120 min per scan |
| 样品台 | reflection, capillary, spinning |
| 冷却 | water or air |
| 通信接口 | Ethernet |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 晶格参数和微晶尺寸研究
- 多相材料的定量物相分析
- 药物晶型表征
- 电池、催化剂和合金物相研究
主要特点
- 高功率管配入射束单色器
- 长半径高精度测角仪
- 峰窄且背景低
- 准确的晶格参数测定
- 多相样品可靠的 Rietveld 精修
- 平行束和毛细管透射选项
关于高分辨率粉末 X 射线衍射仪的常见问题
Rietveld 精修受益于窄而明确的峰,因此半高宽低于约 0.1 度且背景低是理想的。更高分辨率改善重叠反射的分离,对低对称或多相材料很重要。
它去除 K-beta 辐射并减少含铁、钴或锰样品的荧光,否则这些荧光会提高铜辐射下的背景。代价是束强度降低和测量时间延长,但峰背比的改善对准确精修常常必不可少。
配旋转毛细管的透射几何适合弱吸收有机和药物粉末,因为其采样体积更大并减少择优取向和吸收效应。它也适合极少量样品以及必须密封的材料,如空气敏感化合物。
将样品研磨成细而均匀的粉末,然后通过背装或侧装装入样品架,使表面平整且与架边齐平。旋转或使用零背景样品架可减少择优取向和背景。制备质量强烈影响相对峰强度。
片状或针状微晶在装填时取向排列,使部分晶格平面衍射过强,扭曲定量结果。温和研磨、侧装、喷雾干燥和样品旋转可减少该效应。当取向程度已知时,Rietveld 精修可建模并校正残余取向。
定量物相分析将所测峰强度与参考强度比比较,或利用已知晶体结构进行全谱 Rietveld 精修。复杂混合物优先使用 Rietveld,因为其拟合整个图谱并考虑重叠、背景和择优取向。准确度取决于良好的样品制备和结构模型。
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