

全反射 X 射线荧光光谱仪
Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometer
- SKU XRF-0003
- X 射线荧光光谱仪
- CE (to be confirmed)
- Radiation safety enclosure (to be confirmed)
- Cleanroom compatibility (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 元素范围 | Na to U |
|---|---|
| 检出限 | picogram to nanogram range |
| 样品体积 | 1–50 µL |
| 入射角 | below critical angle, < 0.1° |
| 载体 | polished quartz or silicon wafer |
| 激发 | X-ray tube or synchrotron |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:ASTM E1621 Wavelength dispersive X-ray fluorescence, ASTM D4294 Sulfur in petroleum products by EDXRF, ISO 3497 Metallic coatings — X-ray spectrometric thickness
什么是全反射 X 射线荧光光谱仪?
全反射 X 射线荧光光谱仪以掠入射测量平坦载体上的微量样品残留。它适合半导体、水和生物工作中小体积样品的超痕量分析。
什么是全反射 X 射线荧光光谱仪?全反射 X 射线荧光光谱仪以掠入射测量平坦载体上的微量样品残留。它适合半导体、水和生物工作中小体积样品的超痕量分析。## 概述
在全反射 XRF 中,初级束以非常小的角度(低于全反射临界角)照射抛光载体。束不穿透载体,因此散射辐射和载体荧光大幅减少,背景极低。通常几微升的少量样品滴于载体上干燥,留下薄残留直接测量。许多元素的检出限达皮克级,当残留足够薄以避免基体吸收和增强时定量直接。该技术分析微电子表面、超纯水、半导体化学品、生物体液和环境样品。载体必须高度抛光且洁净,样品前处理应在洁净环境中进行以避免这些水平下的污染。## 工作原理是什么?来自 X 射线管或放射性同位素源的初级 X 射线束击出样品原子的内层电子。较高壳层的电子落入空位并发射 X 射线光子,其能量等于两能级之差,对每种元素是独特的。每条特征谱线的强度与该元素含量成正比,因此用参考物质校准可得浓度。能量色散仪器使用硅漂移等半导体检测器直接测量光子能量并一次记录整个光谱。波长色散仪器用分光晶体将特定波长衍射到检测器,提供更好分辨率和对轻元素更低的检出限。吸收和二次激发引起的基体效应通过基本参数法或经验影响系数校正,样品形态与校准标准品匹配。## 主要特点有哪些?- 低于临界角的掠入射几何 - 载体和散射带来的极低背景 - 几微升的样品体积 - 皮克级检出限 - 薄残留的简单定量 - 需要抛光载体和洁净前处理
技术参数有哪些?典型的全反射 X 射线荧光光谱仪配置:元素范围为 Na to U;检出限为 picogram to nanogram range;样品体积为 1–50 µL;入射角为 below critical angle, < 0.1°;载体为 polished quartz or silicon wafer;激发为 X-ray tube or synchrotron。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?全反射 X 射线荧光光谱仪主要用于半导体晶圆表面污染、超纯水中超痕量金属、生物体液和组织消解液、标准物质和纳米材料分析。在更广泛的 X 射线荧光光谱仪类别中,实验室还将其用于合金、陶瓷和玻璃的元素分析、RoHS 和限用物质筛查、涂层厚度和薄膜成分。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 ASTM E1621 Wavelength dispersive X-ray fluorescence、ASTM D4294 Sulfur in petroleum products by EDXRF、ISO 3497 Metallic coatings—X-ray spectrometric thickness、IEC 62321 Determination of restricted substances in electrotechnical products、US EPA Method 6200 Field portable XRF for soil、ISO 13196 Soil quality—Screening of selected elements by EDXRF、IEC 61010-2-091、ISO/IEC 17025。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、Cleanroom compatibility;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。XRF 仪器是受监管的辐射装置,因此安装需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者,便携式设备还需安全作业程序。样品前处理强烈影响准确度:表面污染、厚度不足和颗粒尺寸效应会使结果偏差,粉末最好压片或熔融。校准必须与样品基体匹配,并用核查标准品监控漂移。轻元素的真空或氦气系统需要洁净密封和气源。检测器窗口和 X 射线管是寿命有限的磨损件。保存管使用时间、校准和检查记录,并按辐射法规处置 X 射线部件。## 如何选择合适的全反射 X 射线荧光光谱仪?当样品体积很小且检出限须达皮克或低纳克范围时,例如半导体、超纯水和生物分析,选择全反射 XRF。请说明元素、样品体积和载体要求。确认洁净室能力,因为污染决定可达检出限。### 与其他 X 射线荧光光谱仪型号相比如何?应根据元素范围、检出限和样品类型选择 XRF 配置。能量色散仪器紧凑快速,适合常规筛查和多元素分析,分辨率中等。波长色散仪器成本更高、速度较慢,但在轻元素、精确主氧化物分析和低检出限方面表现出色。全反射仪器在小样品斑点上达到超痕量水平,服务于半导体、水和生物分析。偏振能量色散仪器降低背景用于痕量工作,而无需波长色散光学的成本。微区 XRF 为包裹体、涂层和法医样品增加空间分辨率。选择前考虑样品尺寸、轻元素是否需要真空或氦气吹扫、自动化程度以及实验室必须遵循的法规方法。
完整技术参数
| 元素范围 | Na to U |
|---|---|
| 检出限 | picogram to nanogram range |
| 样品体积 | 1–50 µL |
| 入射角 | below critical angle, < 0.1° |
| 载体 | polished quartz or silicon wafer |
| 激发 | X-ray tube or synchrotron |
| 检测器 | silicon drift or Si(Li) |
| 测量气氛 | air or vacuum |
| 测量时间 | 100–1000 s |
| 通信接口 | Ethernet / USB |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 半导体晶圆表面污染
- 超纯水中超痕量金属
- 生物体液和组织消解液
- 标准物质和纳米材料分析
主要特点
- 低于临界角的掠入射几何
- 载体和散射带来的极低背景
- 几微升的样品体积
- 皮克级检出限
- 薄残留的简单定量
- 需要抛光载体和洁净前处理
关于全反射 X 射线荧光光谱仪的常见问题
在临界角以下,初级束几乎完全被反射且不穿透载体,因此载体荧光和康普顿散射极少。只有薄样品残留与束作用,从而给出极低背景和相应的低检出限。
若干燥残留较厚,初级 X 射线在其内被吸收,深层荧光部分被再吸收,强度不再与质量成线性。薄残留避免这些基体效应,可按沉积质量简单校准而无需基体匹配标准品。
液体只需滴到洁净载体上并干燥,有时在加入内标后。固体必须消解或制成浆液,表面则用擦拭取样。所有操作在洁净环境中使用超纯试剂进行,因为在皮克水平污染会主导结果。
EDXRF 用半导体检测器直接测量光子能量并同时记录整个光谱,速度快且设计紧凑。WDXRF 用分光晶体衍射选定波长,提供更高分辨率、更好的轻元素性能和更低检出限,但成本和测量时间更高。
样品必须足够厚,使初级束在其内被完全吸收且深层荧光不改变结果,这一条件称为无限厚度。该厚度取决于元素和基体,从轻基体中重元素的微米级到轻元素的毫米级不等,并在方法开发中验证。
元素谱线强度不仅取决于其浓度,还取决于其他元素对初级和荧光 X 射线的吸收以及二次激发。这些基体效应可使强度变化很大,因此准确分析需要基体匹配标准品或基于基本参数或影响系数的校正模型。




