

微聚焦 X 射线衍射仪
Micro-Focus X-Ray Diffractometer
- SKU XRD-0004
- X 射线粉末衍射仪
- CE (to be confirmed)
- Radiation safety enclosure (to be confirmed)
- ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 束斑尺寸 | 10–200 µm |
|---|---|
| 2-theta 范围 | 0–90° with 2D detector |
| X 射线管功率 | 30–100 W |
| 检测器 | two-dimensional area detector |
| 样品台 | x-y-z motorized |
| 对位方式 | optical microscope or camera |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:USP <941> X-Ray Diffraction, ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation, ASTM D934 Identification of crystalline compounds in water-formed deposits
什么是微聚焦 X 射线衍射仪?
微聚焦 X 射线衍射仪产生窄束用于小样品和局域分析。它适合单晶粒、包裹体、涂层、艺术品以及任何必须在原位测量的试样。
什么是微聚焦 X 射线衍射仪?微聚焦 X 射线衍射仪产生窄束用于小样品和局域分析。它适合单晶粒、包裹体、涂层、艺术品以及任何必须在原位测量的试样。## 概述
多毛细管或多层膜反射镜等聚焦光学将 X 射线束集中到数十或数百微米,电动台和光学显微镜精确定位样品。该仪器可测量单晶、小包裹体、涂层或文物碎片而不必移除样品,这在地质、考古和法医中很有价值。二维检测器快速收集德拜环和单晶反射,软件指标化物相并绘制表面结晶度。由于束斑小,计数时间更长,粉末的颗粒统计可能较差,但空间信息弥补了这一点。样品定位准确度和束稳定性决定微区分析的质量。## 工作原理是什么?聚焦的 X 射线束(通常为铜 K-alpha 辐射)照射粉末或多晶样品。晶格平面散射该束,在满足布拉格定律(n 乘 lambda 等于两倍 d 乘 sine theta)的角度发生相长干涉。检测器随束与样品之间角度的变化记录峰位和强度,得到衍射图。峰位揭示晶格间距并从参考数据库鉴定物相,峰强度给出相对物相量,峰宽与微晶尺寸和微观应变相关。择优取向、样品位移和荧光会使结果失真,因此样品制备和仪器对位至关重要。现代仪器采用 theta-theta 几何、固态或位敏检测器以及用于检索匹配、Rietveld 精修和峰形分析的软件。## 主要特点有哪些?- 聚焦光学产生数十微米的束斑 - 配光学显微镜对位的电动台 - 用于快速采集的二维检测器 - 单晶粒、包裹体和涂层分析 - 文物的无损测量 - 用于物相指标化和结晶度成像的软件
技术参数有哪些?典型的微聚焦 X 射线衍射仪配置:束斑尺寸为 10–200 µm;2-theta 范围为 0–90° with 2D detector;X 射线管功率为 30–100 W;检测器为 two-dimensional area detector;样品台为 x-y-z motorized;对位方式为 optical microscope or camera。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?微聚焦 X 射线衍射仪主要用于矿物晶粒和流体包裹体、艺术、考古和遗产物体、涂层、薄层和腐蚀产物、法医和小型物证样品。在更广泛的 X 射线粉末衍射仪类别中,实验室还将其用于药物多晶型和结晶度检测、水泥、熟料和矿物物相分析、催化剂、电池和陶瓷材料。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 USP <941> X-Ray Diffraction、ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation、ASTM D934 Identification of crystalline compounds in water-formed deposits、ISO 20203 Carbonaceous materials for aluminium production—XRD of calcined coke、ISO/IEC 17025、IEC 61010-2-091。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。X 射线衍射仪是受监管的辐射装置,需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者。粉末样品必须细磨并重现装填,因为颗粒尺寸、堆密度和择优取向会使峰强度偏差;背装、侧装或旋转样品台可减少取向效应。含铁、钴或锰样品的荧光会提高铜辐射下的背景,可能需要更换波长或使用单色器。用硅或刚玉等标准品验证对位、零点偏移和仪器峰形。检测器和 X 射线管是磨损件,应定期检查测角仪校准。保存样品制备记录以实现方法可追溯性。## 如何选择合适的微聚焦 X 射线衍射仪?当只有极小样品,或必须在大物体内精确定位测量点时,例如地质、遗产和法医领域,选择微聚焦衍射仪。请说明束斑尺寸、台行程和检测器类型。确认软件能从二维图像指标化物相。### 与其他 X 射线粉末衍射仪型号相比如何?应根据分辨率、检测器类型、样品环境和通量选择粉末衍射仪。台式仪器紧凑易用,适合物相鉴定和常规质量控制,但分辨率和附件较少。高分辨率研究系统使用长臂、单色器和高精度测角仪,用于精确晶格参数、定量分析和复杂峰形拟合。原位系统增加加热、冷却、湿度或气体台用于时间分辨研究。微聚焦仪器提供小束斑用于包裹体和小样品。透射几何适合弱吸收有机和制药材料,并可减少择优取向。确认 2-theta 范围、角度分辨率、自动进样器容量以及 Rietveld 和 PDF 数据库访问等软件功能符合应用需求。
完整技术参数
| 束斑尺寸 | 10–200 µm |
|---|---|
| 2-theta 范围 | 0–90° with 2D detector |
| X 射线管功率 | 30–100 W |
| 检测器 | two-dimensional area detector |
| 样品台 | x-y-z motorized |
| 对位方式 | optical microscope or camera |
| 测量时间 | 1–30 min per point |
| 样品尺寸 | large objects supported in situ |
| 辐射 | Cu or Co K-alpha |
| 外壳 | shielded with interlocks |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 矿物晶粒和流体包裹体
- 艺术、考古和遗产物体
- 涂层、薄层和腐蚀产物
- 法医和小型物证样品
主要特点
- 聚焦光学产生数十微米的束斑
- 配光学显微镜对位的电动台
- 用于快速采集的二维检测器
- 单晶粒、包裹体和涂层分析
- 文物的无损测量
- 用于物相指标化和结晶度成像的软件
关于微聚焦 X 射线衍射仪的常见问题
可以,只要物体能放在台上且仪器配置为原位测量,这在绘画、雕像和文书上很常见。台行程和检测器距离限制物体尺寸。无损测量对遗产和法医物体是主要优势。
当束只照射少量微晶时,由于并非所有取向都被代表,强度会波动,使相对峰强度偏差。旋转样品、使用更大束斑或测量多个点可改善统计。这就是粉末定量偏好大束斑的原因。
优先使用二维面检测器,因为它在一次曝光中捕获完整德拜环和许多单晶反射,在小束斑下高效。它还支持从斑点状或有织构的图谱鉴定物相,并减少长时间扫描的需要。
将样品研磨成细而均匀的粉末,然后通过背装或侧装装入样品架,使表面平整且与架边齐平。旋转或使用零背景样品架可减少择优取向和背景。制备质量强烈影响相对峰强度。
片状或针状微晶在装填时取向排列,使部分晶格平面衍射过强,扭曲定量结果。温和研磨、侧装、喷雾干燥和样品旋转可减少该效应。当取向程度已知时,Rietveld 精修可建模并校正残余取向。
定量物相分析将所测峰强度与参考强度比比较,或利用已知晶体结构进行全谱 Rietveld 精修。复杂混合物优先使用 Rietveld,因为其拟合整个图谱并考虑重叠、背景和择优取向。准确度取决于良好的样品制备和结构模型。





