

四圆 X 射线衍射仪
Four-Circle X-Ray Diffractometer
- SKU XRA-0002
- X 射线衍射仪
- CE (to be confirmed)
- Radiation safety enclosure (to be confirmed)
- ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 轴数 | omega, 2-theta, chi, phi |
|---|---|
| chi 范围 | 0–90° or more |
| phi 旋转 | continuous 360° |
| 2-theta 范围 | 0–160° |
| 角度准确度 | ±0.005° |
| 检测器 | point, line or area |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation, ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress, USP <941> X-Ray Diffraction
什么是四圆 X 射线衍射仪?
四圆 X 射线衍射仪使用四个旋转轴实现样品的完整取向控制。它适合研究和材料科学中精确的单晶、织构和倒易空间测量。
什么是四圆 X 射线衍射仪?四圆 X 射线衍射仪使用四个旋转轴实现样品的完整取向控制。它适合研究和材料科学中精确的单晶、织构和倒易空间测量。## 概述
四个圆通常为 omega、two-theta、chi 和 phi,可将任意晶格平面带入衍射条件并旋转,从而系统探索倒易空间。该配置支持单晶结构工作、织构极图测量、摇摆曲线和漫散射研究,并可配置点、线或面检测器。与 kappa 几何相比,四圆测角仪提供大而明确的角度范围,适合薄膜和织构材料,但可能较慢且占用空间更大。用标准品对位样品和衍射仪轴至关重要,因为误差会传播到晶格参数和织构系数中。该仪器见于材料科学、物理和晶体学实验室。## 工作原理是什么?X 射线从材料的电子密度散射。在晶体中,来自周期性晶格平面的散射在满足布拉格定律的角度发生相长干涉,产生衍射峰。衍射仪以高角度精度定位样品和检测器,并记录强度随角度或随二维检测器图像的变化。单晶仪器从全套反射确定原子结构,而粉末和薄膜仪器分析物相混合物、择优取向和层状结构。峰位给出晶格参数和应变,峰宽与微晶尺寸和微观应变相关,低角散射揭示纳米尺度特征。光学、单色器、检测器和样品台的选择决定可进行的测量,用有证标准品进行仪器对位是准确度的基础。## 主要特点有哪些?- 四个旋转轴实现样品完整取向 - 系统性倒易空间探索 - 极图和织构分析 - 摇摆曲线和漫散射 - 点、线或面检测器选项 - 大而明确的角度范围
技术参数有哪些?典型的四圆 X 射线衍射仪配置:轴数为 omega, 2-theta, chi, phi;chi 范围为 0–90° or more;phi 旋转为 continuous 360°;2-theta 范围为 0–160°;角度准确度为 ±0.005°;检测器为 point, line or area。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?四圆 X 射线衍射仪主要用于织构和极图测量、单晶结构和漫散射、外延薄膜和衬底分析、磁性和相变研究。在更广泛的 X 射线衍射仪类别中,实验室还将其用于单晶结构测定、薄膜厚度、织构和物相分析、焊缝、涂层和加工件的残余应力。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation、ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress、USP <941> X-Ray Diffraction、ISO 20203 Carbonaceous materials—XRD of calcined coke、ISO/IEC 17025、IEC 61010-2-091。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。这些是受监管的辐射装置,需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者。单晶必须精确安装和对中,通常用低温或湿度装置保护。薄膜和晶圆需要平整安装并与束仔细对位,反射率测量要求极低背景和精确的角度步进。残余应力方法需要规定的测量方向和弹性常数。小角系统需要长真空路径和洁净束流挡板。用标准品验证对位、角度校准和检测器线性,X 射线管、测角仪电机和面检测器是磨损件。应记录样品制备和测量条件以实现可追溯性。## 如何选择合适的四圆 X 射线衍射仪?当需要完整取向控制、织构分析或倒易空间成像时,选择四圆衍射仪。请说明材料、测量类型和检测器。确认角度范围和对位标准品,以及是否需要织构测角仪摇篮或环境台。### 与其他 X 射线衍射仪型号相比如何?应根据结构问题选择衍射仪配置。配四圆或 kappa 测角仪和面检测器的单晶系统从小晶体确定原子结构。带掠入射光学和平行束的薄膜仪器测量涂层中的层厚、织构和物相。反射率配置在极低角度测量电子密度剖面、界面粗糙度和层厚。残余应力仪器使用侧倾或 psi 几何并精确倾斜样品,测量金属和陶瓷中的应变。配长相机长度的小角散射系统分辨纳米级颗粒、孔隙和片层。确认角度范围和分辨率、样品环境、检测器类型和应用软件,并验证仪器能遵循任何要求的标准方法。
完整技术参数
| 轴数 | omega, 2-theta, chi, phi |
|---|---|
| chi 范围 | 0–90° or more |
| phi 旋转 | continuous 360° |
| 2-theta 范围 | 0–160° |
| 角度准确度 | ±0.005° |
| 检测器 | point, line or area |
| X 射线管功率 | 1–3 kW |
| 光学 | monochromator or mirror |
| 样品台 | eulerian cradle or texture goniometer |
| 通信接口 | Ethernet |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 织构和极图测量
- 单晶结构和漫散射
- 外延薄膜和衬底分析
- 磁性和相变研究
主要特点
- 四个旋转轴实现样品完整取向
- 系统性倒易空间探索
- 极图和织构分析
- 摇摆曲线和漫散射
- 点、线或面检测器选项
- 大而明确的角度范围
关于四圆 X 射线衍射仪的常见问题
Kappa 使用倾斜轴以更少约束和常更快的移动到达相同取向,适合小晶体和自动化结构工作。四圆几何提供大而明确的 chi 和 phi 范围,更适合织构和薄膜测量。两者都能解析单晶结构。
极图是所选晶格平面取向分布的映射,通过改变样品倾角和旋转并监测衍射强度来测量。它揭示金属、陶瓷和薄膜中的织构、择优取向和外延关系。
样品表面与测角仪轴之间的角度偏移会移动峰位并扭曲织构和晶格参数结果。每次测量前用标准品或样品表面对位,对于高精度工作,零点几度的误差也可能显著。
单晶衍射测量来自一个晶体的单独反射,数据足以解析完整原子结构,包括键长和键角。粉末衍射测量许多随机取向微晶的重叠反射,可鉴定和定量物相,但单靠它无法确定完整原子结构。
将样品倾斜到若干角度,并在每个倾斜角测量所选衍射峰的移动。由峰移计算晶格应变,再由应变和材料弹性常数得出应力。方法遵循 ASTM E1426 等标准,并要求规定测量方向。
在非常小的入射角下,X 射线束仅探测薄膜或涂层的近表面区域,减少来自基体的信号。这允许对仅数纳米至数微米厚的层进行物相鉴定、织构和深度剖析,用于半导体、光学涂层和腐蚀膜。
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