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Lab Manufacturers China
四圆 X 射线衍射仪 — 产品图片

四圆 X 射线衍射仪

Four-Circle X-Ray Diffractometer

  • SKU XRA-0002
  • X 射线衍射仪
  • CE (to be confirmed)
  • Radiation safety enclosure (to be confirmed)
  • ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)

价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价

价格取决于配置、数量与目的港。

主要技术参数

主要技术参数
轴数omega, 2-theta, chi, phi
chi 范围0–90° or more
phi 旋转continuous 360°
2-theta 范围0–160°
角度准确度±0.005°
检测器point, line or area
索取报价 下载手册 · 待提供

作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation, ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress, USP <941> X-Ray Diffraction

什么是四圆 X 射线衍射仪?

四圆 X 射线衍射仪使用四个旋转轴实现样品的完整取向控制。它适合研究和材料科学中精确的单晶、织构和倒易空间测量。

什么是四圆 X 射线衍射仪?四圆 X 射线衍射仪使用四个旋转轴实现样品的完整取向控制。它适合研究和材料科学中精确的单晶、织构和倒易空间测量。## 概述

四个圆通常为 omega、two-theta、chi 和 phi,可将任意晶格平面带入衍射条件并旋转,从而系统探索倒易空间。该配置支持单晶结构工作、织构极图测量、摇摆曲线和漫散射研究,并可配置点、线或面检测器。与 kappa 几何相比,四圆测角仪提供大而明确的角度范围,适合薄膜和织构材料,但可能较慢且占用空间更大。用标准品对位样品和衍射仪轴至关重要,因为误差会传播到晶格参数和织构系数中。该仪器见于材料科学、物理和晶体学实验室。## 工作原理是什么?X 射线从材料的电子密度散射。在晶体中,来自周期性晶格平面的散射在满足布拉格定律的角度发生相长干涉,产生衍射峰。衍射仪以高角度精度定位样品和检测器,并记录强度随角度或随二维检测器图像的变化。单晶仪器从全套反射确定原子结构,而粉末和薄膜仪器分析物相混合物、择优取向和层状结构。峰位给出晶格参数和应变,峰宽与微晶尺寸和微观应变相关,低角散射揭示纳米尺度特征。光学、单色器、检测器和样品台的选择决定可进行的测量,用有证标准品进行仪器对位是准确度的基础。## 主要特点有哪些?- 四个旋转轴实现样品完整取向 - 系统性倒易空间探索 - 极图和织构分析 - 摇摆曲线和漫散射 - 点、线或面检测器选项 - 大而明确的角度范围

技术参数有哪些?典型的四圆 X 射线衍射仪配置:轴数为 omega, 2-theta, chi, phi;chi 范围为 0–90° or more;phi 旋转为 continuous 360°;2-theta 范围为 0–160°;角度准确度为 ±0.005°;检测器为 point, line or area。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?四圆 X 射线衍射仪主要用于织构和极图测量、单晶结构和漫散射、外延薄膜和衬底分析、磁性和相变研究。在更广泛的 X 射线衍射仪类别中,实验室还将其用于单晶结构测定、薄膜厚度、织构和物相分析、焊缝、涂层和加工件的残余应力。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation、ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress、USP <941> X-Ray Diffraction、ISO 20203 Carbonaceous materials—XRD of calcined coke、ISO/IEC 17025、IEC 61010-2-091。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。这些是受监管的辐射装置,需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者。单晶必须精确安装和对中,通常用低温或湿度装置保护。薄膜和晶圆需要平整安装并与束仔细对位,反射率测量要求极低背景和精确的角度步进。残余应力方法需要规定的测量方向和弹性常数。小角系统需要长真空路径和洁净束流挡板。用标准品验证对位、角度校准和检测器线性,X 射线管、测角仪电机和面检测器是磨损件。应记录样品制备和测量条件以实现可追溯性。## 如何选择合适的四圆 X 射线衍射仪?当需要完整取向控制、织构分析或倒易空间成像时,选择四圆衍射仪。请说明材料、测量类型和检测器。确认角度范围和对位标准品,以及是否需要织构测角仪摇篮或环境台。### 与其他 X 射线衍射仪型号相比如何?应根据结构问题选择衍射仪配置。配四圆或 kappa 测角仪和面检测器的单晶系统从小晶体确定原子结构。带掠入射光学和平行束的薄膜仪器测量涂层中的层厚、织构和物相。反射率配置在极低角度测量电子密度剖面、界面粗糙度和层厚。残余应力仪器使用侧倾或 psi 几何并精确倾斜样品,测量金属和陶瓷中的应变。配长相机长度的小角散射系统分辨纳米级颗粒、孔隙和片层。确认角度范围和分辨率、样品环境、检测器类型和应用软件,并验证仪器能遵循任何要求的标准方法。

完整技术参数

完整技术参数
轴数omega, 2-theta, chi, phi
chi 范围0–90° or more
phi 旋转continuous 360°
2-theta 范围0–160°
角度准确度±0.005°
检测器point, line or area
X 射线管功率1–3 kW
光学monochromator or mirror
样品台eulerian cradle or texture goniometer
通信接口Ethernet

以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。

应用领域

  • 织构和极图测量
  • 单晶结构和漫散射
  • 外延薄膜和衬底分析
  • 磁性和相变研究

主要特点

  • 四个旋转轴实现样品完整取向
  • 系统性倒易空间探索
  • 极图和织构分析
  • 摇摆曲线和漫散射
  • 点、线或面检测器选项
  • 大而明确的角度范围

关于四圆 X 射线衍射仪的常见问题

Kappa 使用倾斜轴以更少约束和常更快的移动到达相同取向,适合小晶体和自动化结构工作。四圆几何提供大而明确的 chi 和 phi 范围,更适合织构和薄膜测量。两者都能解析单晶结构。

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请将配置、数量与目的港发送至 sales@labmanufacturerschina.com,我们将回复规格书与价格。

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