

单晶 X 射线衍射仪
Single-Crystal X-Ray Diffractometer
- SKU XRA-0001
- X 射线衍射仪
- CE (to be confirmed)
- Radiation safety enclosure (to be confirmed)
- ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 晶体尺寸 | 50–300 µm typical |
|---|---|
| 2-theta 范围 | up to 160° |
| 测角仪 | kappa or four-circle |
| 检测器 | large area, photon counting |
| X 射线源 | sealed tube or microfocus |
| 温度范围 | 80–400 K with device |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation, ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress, USP <941> X-Ray Diffraction
什么是单晶 X 射线衍射仪?
单晶 X 射线衍射仪测量来自一个晶体的反射以解析其完整原子结构。它适合研究中的化学晶体学、新化合物和绝对构型测定。
什么是单晶 X 射线衍射仪?单晶 X 射线衍射仪测量来自一个晶体的反射以解析其完整原子结构。它适合研究中的化学晶体学、新化合物和绝对构型测定。## 概述
该仪器将微焦点 X 射线源与单色光学、kappa 或四圆测角仪以及大型面检测器结合。通常仅 50 至 300 微米的单晶安装在纤维或环上并在束中对中。测角仪使晶体旋转经过许多取向,检测器记录数百至数千个反射,软件将其指标化并精修为含原子坐标、键长、键角和热参数的结构模型。现代检测器和软件可在数小时内解析小分子结构,低温装置减少热运动并保护不稳定晶体。仔细选晶和装晶、正确的吸收校正和高数据完整度对可靠精修必不可少。## 工作原理是什么?X 射线从材料的电子密度散射。在晶体中,来自周期性晶格平面的散射在满足布拉格定律的角度发生相长干涉,产生衍射峰。衍射仪以高角度精度定位样品和检测器,并记录强度随角度或随二维检测器图像的变化。单晶仪器从全套反射确定原子结构,而粉末和薄膜仪器分析物相混合物、择优取向和层状结构。峰位给出晶格参数和应变,峰宽与微晶尺寸和微观应变相关,低角散射揭示纳米尺度特征。光学、单色器、检测器和样品台的选择决定可进行的测量,用有证标准品进行仪器对位是准确度的基础。## 主要特点有哪些?- 微焦点源配单色光学 - Kappa 或四圆精密测角仪 - 用于快速采集的大型面检测器 - 晶体安装于纤维或环上 - 用于不稳定晶体的低温装置 - 用于指标化、吸收校正和精修的软件
技术参数有哪些?典型的单晶 X 射线衍射仪配置:晶体尺寸为 50–300 µm typical;2-theta 范围为 up to 160°;测角仪为 kappa or four-circle;检测器为 large area, photon counting;X 射线源为 sealed tube or microfocus;温度范围为 80–400 K with device。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?单晶 X 射线衍射仪主要用于新化合物结构测定、手性分子绝对构型、多晶型和盐型结构研究、矿物和无机晶体结构研究。在更广泛的 X 射线衍射仪类别中,实验室还将其用于单晶结构测定、薄膜厚度、织构和物相分析、焊缝、涂层和加工件的残余应力。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 ASTM E915 Verifying the alignment of X-ray diffraction instrumentation、ASTM E1426 Determining the effective elastic parameter for X-ray diffraction measurements of residual stress、USP <941> X-Ray Diffraction、ISO 20203 Carbonaceous materials—XRD of calcined coke、ISO/IEC 17025、IEC 61010-2-091。本型号的认证候选包括 CE、Radiation safety enclosure、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。这些是受监管的辐射装置,需要屏蔽、联锁、辐射巡测和受训操作者。单晶必须精确安装和对中,通常用低温或湿度装置保护。薄膜和晶圆需要平整安装并与束仔细对位,反射率测量要求极低背景和精确的角度步进。残余应力方法需要规定的测量方向和弹性常数。小角系统需要长真空路径和洁净束流挡板。用标准品验证对位、角度校准和检测器线性,X 射线管、测角仪电机和面检测器是磨损件。应记录样品制备和测量条件以实现可追溯性。## 如何选择合适的单晶 X 射线衍射仪?当需要完整原子结构或绝对构型且能培养合适晶体时,选择单晶衍射仪。请说明晶体尺寸、元素范围以及是否需要低温或高压装置。确认检测器灵敏度和软件适合计划解析的结构。### 与其他 X 射线衍射仪型号相比如何?应根据结构问题选择衍射仪配置。配四圆或 kappa 测角仪和面检测器的单晶系统从小晶体确定原子结构。带掠入射光学和平行束的薄膜仪器测量涂层中的层厚、织构和物相。反射率配置在极低角度测量电子密度剖面、界面粗糙度和层厚。残余应力仪器使用侧倾或 psi 几何并精确倾斜样品,测量金属和陶瓷中的应变。配长相机长度的小角散射系统分辨纳米级颗粒、孔隙和片层。确认角度范围和分辨率、样品环境、检测器类型和应用软件,并验证仪器能遵循任何要求的标准方法。
完整技术参数
| 晶体尺寸 | 50–300 µm typical |
|---|---|
| 2-theta 范围 | up to 160° |
| 测角仪 | kappa or four-circle |
| 检测器 | large area, photon counting |
| X 射线源 | sealed tube or microfocus |
| 温度范围 | 80–400 K with device |
| 角度准确度 | ±0.01° |
| 数据采集时间 | 1–24 h per crystal |
| 辐射 | Mo or Cu K-alpha |
| 外壳 | shielded with interlocks |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 新化合物结构测定
- 手性分子绝对构型
- 多晶型和盐型结构研究
- 矿物和无机晶体结构研究
主要特点
- 微焦点源配单色光学
- Kappa 或四圆精密测角仪
- 用于快速采集的大型面检测器
- 晶体安装于纤维或环上
- 用于不稳定晶体的低温装置
- 用于指标化、吸收校正和精修的软件
关于单晶 X 射线衍射仪的常见问题
典型晶体为 50 至 300 微米,不过现代检测器和微焦点源可测量小至约 10 微米的晶体。晶体应为单晶、形状良好且无裂纹。较大晶体可能需要吸收校正,较小晶体需要更长测量时间。
冷却到约 100 开尔文减少原子热运动,使衍射数据更锐利,并保护在室温下失去溶剂或分解的晶体。在某些情况下还提高氢原子位置的准确度。冷流或冷冻环系统在长时间采集中保持晶体稳定。
数据质量取决于晶体质量、数据完整度、冗余度、分辨率极限和反射的信噪比。软件评估这些参数并标记问题。良好的装晶、正确的吸收校正和足够的曝光时间对可靠的结构精修必不可少。
单晶衍射测量来自一个晶体的单独反射,数据足以解析完整原子结构,包括键长和键角。粉末衍射测量许多随机取向微晶的重叠反射,可鉴定和定量物相,但单靠它无法确定完整原子结构。
将样品倾斜到若干角度,并在每个倾斜角测量所选衍射峰的移动。由峰移计算晶格应变,再由应变和材料弹性常数得出应力。方法遵循 ASTM E1426 等标准,并要求规定测量方向。
在非常小的入射角下,X 射线束仅探测薄膜或涂层的近表面区域,减少来自基体的信号。这允许对仅数纳米至数微米厚的层进行物相鉴定、织构和深度剖析,用于半导体、光学涂层和腐蚀膜。
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