

明暗场金相显微镜
Darkfield and Brightfield Metallurgical Microscope
- SKU MEM-0003
- 金相显微镜
- CE (to be confirmed)
- ISO 9001 manufacturing (to be confirmed)
价格面议 —— 按订单报 FOB / CIF 价
价格取决于配置、数量与目的港。
主要技术参数
| 光学系统 | Infinite corrected |
|---|---|
| 放大范围 | 50×–1000× |
| 物镜 | 5×, 10×, 20×, 50×, 100× plan |
| 反差模式 | Brightfield, darkfield, polarized |
| 照明 | Reflected, 12 V 50 W halogen or LED |
| 载物台 | Mechanical, 180 × 150 mm |
作者:Lab Manufacturers China 技术团队最近复核 适用标准:ASTM E3, ASTM E407, ASTM E112
什么是明暗场金相显微镜?
明暗场金相显微镜在一台仪器中提供两种反射光反差模式。它用于需要在同一样品上同时检查总体结构和细微表面缺陷的场合。
什么是明暗场金相显微镜?明暗场金相显微镜在一台仪器中提供两种反射光反差模式。它用于需要在同一样品上同时检查总体结构和细微表面缺陷的场合。## 概述
明暗场金相显微镜使用可在轴向与斜向照明之间切换的反射光照明器。明场中,光从平坦表面直接反射回来,通过反射率差异显示相和组织。暗场中,光斜向照射表面,使平坦区域显得黑暗,而边缘、划痕、夹杂物和颗粒将光散射进物镜而显得明亮。两种模式互补:明场用于总体组织,暗场用于缺陷和细特征。转换盘或滑板可快速切换模式,两种模式使用相同物镜。通常还包含用于各向异性相的偏光。## 工作原理是什么?金相显微镜从与物镜相同的一侧照明样品,因此光从表面反射并沿物镜返回目镜或相机。由于样品不透明,不使用透射照明。反射明场通过反射率差异显示相和组织。暗场采用斜向照明以揭示划痕、边缘和细颗粒。偏光和微分干涉相衬增加关于各向异性和表面起伏的信息。样品通常镶嵌在树脂中,经研磨抛光,并常经侵蚀以显示晶界。物镜数值孔径、照明类型和表面制备决定可分辨的内容。## 主要特点有哪些?- 明场和暗场照明可切换 - 斜向暗场显示细缺陷和边缘 - 两种反差模式共用物镜 - 含起偏镜和检偏镜 - 转换盘或滑板可快速切换模式
技术参数有哪些?典型的明暗场金相显微镜配置:光学系统为 Infinite corrected;放大范围为 50×–1000×;物镜为 5×, 10×, 20×, 50×, 100× plan;反差模式为 Brightfield, darkfield, polarized;照明为 Reflected, 12 V 50 W halogen or LED;载物台为 Mechanical, 180 × 150 mm。以上数值代表该产品类别的常见水平,具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用?明暗场金相显微镜主要用于表面缺陷和划痕检测、夹杂物和颗粒鉴别、涂层和镀层检查、常规金相加缺陷分析。在更广泛的金相显微镜类别中,实验室还将其用于金属和合金晶粒结构分析、焊接和热处理评估、失效分析和缺陷调查。## 适用哪些标准与认证?相关标准与方法包括 ASTM E3、ASTM E407、ASTM E112、ISO 643、IEC 61010-1。本型号的认证候选包括 CE、ISO 9001 manufacturing;每项认证均需针对具体配置在发货前确认,仅提供已实际签发的证书。样品制备决定图像质量,因此应遵循一致的研磨和抛光程序,并按相关标准侵蚀。保持物镜和样品表面无灰尘、油污和残留,避免划伤镀层。不使用时遮盖样品以防氧化和污染。核查照明对准,偏光工作时使用无应力物镜和对中偏光镜。用测微尺为每个物镜校准测量并记录标度。定期维护载物台和调焦机构,并按规定计划核查灯或二极管输出。## 如何选择合适的明暗场金相显微镜?当需要同一样品上既评估总体组织又评估细微表面缺陷时选择该仪器。确认提供专用暗场照明器或物镜组,因为标准暗场需要正确的环形照明。检查物镜是否支持暗场反差,并确认模式切换速度足以满足工作流程。### 与其他金相显微镜型号相比如何?当样品为不透明、反光并以反射光观察时选择金相显微镜。确定所需反差方法:明场用于总体组织,暗场用于缺陷和细特征,偏光或微分干涉相衬用于各向异性和起伏。确认载物台能承载样品形式,包括镶嵌样品、大型零件或晶圆。小型镶嵌样品选正置型号,较大样品选倒置型号。选择平场物镜以获得平整视场,并配适合测量和记录的相机。需要进行晶粒尺寸或相测量时,应确认具备测量软件和校准。
完整技术参数
| 光学系统 | Infinite corrected |
|---|---|
| 放大范围 | 50×–1000× |
| 物镜 | 5×, 10×, 20×, 50×, 100× plan |
| 反差模式 | Brightfield, darkfield, polarized |
| 照明 | Reflected, 12 V 50 W halogen or LED |
| 载物台 | Mechanical, 180 × 150 mm |
| 目镜 | 10× widefield |
| 相机接口 | C-mount trinocular |
| 调焦 | Coarse and fine |
| 供电 | 100–240 V AC |
以上数值代表该产品类别的常见水平。最终参数以报价单及随仪器提供的校准文件为准。
应用领域
- 表面缺陷和划痕检测
- 夹杂物和颗粒鉴别
- 涂层和镀层检查
- 常规金相加缺陷分析
主要特点
- 明场和暗场照明可切换
- 斜向暗场显示细缺陷和边缘
- 两种反差模式共用物镜
- 含起偏镜和检偏镜
- 转换盘或滑板可快速切换模式
关于明暗场金相显微镜的常见问题
暗场要求直接照明光锥位于物镜孔径之外,因此使用低数值孔径或带内置光阑的物镜,或提供专用暗场物镜。使用标准物镜可能反差下降或出现明亮背景。
暗场更适合检测划痕、边缘、细夹杂物、颗粒和涂层缺陷,因为即使微弱的散射体也在暗背景上显得明亮。明场更适合评估样品整体的相结构和反射率差异。
可以。相机看到的是共用物镜所成的像,与照明模式无关,因此可采集明场和暗场图像。由于暗场图像通常暗得多,两种模式之间可能需要调整曝光。
金属、合金和许多陶瓷不透明,光无法透过。金相显微镜因此通过物镜照明抛光表面并收集反射光。透明岩相样品则用透射偏光方式观察。
样品通常经切割、树脂镶嵌、研磨和抛光至镜面,然后侵蚀以显示晶界和相。制备步骤遵循 ASTM E3 和 ASTM E407 等标准。制备不当会引入划痕和伪影,可能被误认为真实特征。
暗场突出斜向反射或散射光的边缘、划痕、夹杂物和细颗粒。它提高抛光表面缺陷的可见性,有助于发现明场可能遗漏的细小特征,但不用于总体结构评估。
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