激光烧蚀 ICP-MS 系统

什么是激光烧蚀 ICP-MS 系统？激光烧蚀 ICP-MS 系统将聚焦激光耦合到等离子体，直接取样固体材料。它适合空间分辨元素成像以及难以或不适合溶解的固体。## 概述

激光在充氦样品池中烧蚀少量固体样品，产生的气溶胶由气体输送到 ICP 中电离并进行质谱分析。由于无需消解，污染和分析物损失减少且样品通量提高，同时空间分辨率使分析者能够绘制表面元素分布，例如矿物包裹体、涂层各层或生物组织中的元素格局。斑点尺寸约 5 至 200 微米，重复频率决定采样密度。定量使用基体匹配的固体参考物质，因为烧蚀产率随材料而变化。该技术广泛用于地球化学、材料科学和生物学，并可与多数 ICP-MS 分析器结合。## 工作原理是什么？大气压下的等离子体炬管电离样品气溶胶。离子经采样锥和截取锥组成的两级接口被引出色真空区，由离子光学聚焦，并按质荷比由质量分析器分离。最常见的分析器是四极杆，快速扫描选定质量数；扇形磁场仪器提供高分辨率或高灵敏度，多接收器仪器精确测量同位素比值，飞行时间分析器同时记录所有质量数。充有氦气、氢气或反应气体的碰撞反应池可抑制多原子干扰，如氯化氩对砷、氩氩对硒的干扰。检测使用电子倍增器的脉冲计数和模拟模式覆盖宽动态范围。校准使用外标、内标，必要时采用同位素稀释法，并严格控制空白和基体效应。## 主要特点有哪些？- 充氦载气的激光样品池 - 斑点尺寸约 5 至 200 µm - 空间分辨元素成像 - 固体样品前处理极少 - 基体匹配固体参考校准 - 兼容多数 ICP-MS 分析器

技术参数有哪些？典型的激光烧蚀 ICP-MS 系统配置：激光类型为 193 nm excimer or 213 nm Nd:YAG；斑点尺寸为 5–200 µm；重复频率为 1–100 Hz；载气为 helium with argon makeup；空间分辨率为 down to about 5 µm；烧蚀池为 fast washout, low dispersion。以上数值代表该产品类别的常见水平，具体配置参数以报价单及随机校准文件为准。## 适用于哪些应用？激光烧蚀 ICP-MS 系统主要用于矿物和流体包裹体地球化学、涂层、多层和合金成像、生物组织元素成像、法医和考古材料。在更广泛的电感耦合等离子体质谱仪类别中，实验室还将其用于符合 ICH Q3D 和 USP <233> 的元素杂质检测、水和环境样品中超痕量金属、临床和法医痕量元素分析。## 适用哪些标准与认证？相关标准与方法包括 ICH Q3D Elemental Impurities、USP <233> Elemental Impurities—Procedures、USP <730> Plasma Spectrochemistry、ISO 17294-2 Water quality—ICP-MS determination of elements、US EPA Method 200.8、US EPA Method 6020B、ISO/IEC 17025。本型号的认证候选包括 CE、Laser safety class 4 enclosure、ISO 9001 manufacturing；每项认证均需针对具体配置在发货前确认，仅提供已实际签发的证书。ICP-MS 需要高纯氩气、带粗抽泵和涡轮分子泵的真空系统、稳定电源和控温房间。接口锥、炬管和样品引入部件会磨损，必须检查和更换，锥的状态影响灵敏度和稳定性。在纳克/升水平污染至关重要，因此洁净的样品前处理区域、超纯酸和专用器皿必不可少。基体效应需要内标、稀释或基体匹配，高溶解固体需稀释或稳健接口。每天用多元素标准品进行调谐、质量校准和性能检查可保持数据质量。受监管环境应增加自动化和审计追踪，并监控碰撞气体和泵油。## 如何选择合适的激光烧蚀 ICP-MS 系统？当空间信息或无法溶解的固体是分析核心时，选择激光烧蚀系统，并确认激光波长和斑点尺寸适合您的材料。请说明所需空间分辨率以及基体匹配参考物质的可用性。确保激光池、输送管路和 ICP-MS 具有适合成像的快速响应。### 与其他电感耦合等离子体质谱仪型号相比如何？应根据所需检出限、元素数量、所需同位素信息和基体选择 ICP-MS 配置。配碰撞池的单四极杆可经济地处理多数常规超痕量工作。三重四极杆增加反应池质量选择，应对困难干扰以及低水平硫、磷和卤素。高分辨率扇形磁场仪器可分辨光谱重叠，并为半导体和地球化学工作提供更高灵敏度。多接收器仪器提供同位素比值研究所需的精度。飞行时间仪器可捕获完整质谱，用于快速多元素或单颗粒分析。激光烧蚀增加直接固体进样能力。将样品引入、碰撞气体和软件与基体和法规要求匹配。